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电导率仪的校正 电导率仪的校正六电导率仪的校正a校正间隔一般情况下，电导或tds一个月校正一次，ph校正两次，orp一般不需校正。b校正规范1）校正步骤a开始校正通过按cal键开始校正，在测量电导，tds或ph时，如显示cal图标时，表明...发布时间：2010-05-17 22:08 点击次数：1020 次
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盐垢中其他成分的测定 盐垢中其他成分的测定sd 202.18—86determination of other components in deposit-forming impurities in steam由于三氧化二铁、三...发布时间：2010-05-17 22:04 点击次数：3671 次
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盐垢中氧化钠的测定 盐垢中氧化钠的测定sd 202.17—86determination of sodium oxide in deposit-forming impuried in steam 本方法适用于测定水溶性盐垢样中...发布时间：2010-05-17 22:03 点击次数：1088 次
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盐垢中氯化物的测定 盐垢中氯化物的测定sd202.16—86determination of chloride in deposit- forming impurities in steam本方法适用于测定水溶性盐垢中氯化物(...发布时间：2010-05-17 22:03 点击次数：866 次
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盐垢中碱性物质的测定 盐垢中碱性物质的测定sd202.15—86determination of alkaline matter in deposit-forming impurities in steam本方法适用于测定盐垢中...发布时间：2010-05-17 22:02 点击次数：889 次
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硫酸酐的测定——硫酸钡光度方法 硫酸酐的测定——硫酸钡光度法determination of sulfuric acid anhydride——photometric method used to barium sulfatesd 202...发布时间：2010-05-17 21:57 点击次数：1338 次
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磷酸酐的测定 磷酸酐的测定sd 202.11—86determination the anhydride of phosphoric acid本方法适用于测定水垢、盐垢中磷酸盐(以磷酸酐计)的含量。 水垢和盐垢中常见成分，均不干...发布时间：2010-05-17 21:56 点击次数：1219 次
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二氧化硅的测定 二氧化硅的测定sd 202.10—86determination for silica(silicon dioxide) 本方法适用于测定水垢、盐垢中二氧化硅的含量。垢和腐蚀产物中的常见成分均不干扰测定。仅...发布时间：2010-05-17 21:54 点击次数：3410 次
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钙、镁氧化物的测定 钙、镁氧化物的测定sd 202.9—86determination for calcium and magnesium oxide 本方法适用于测定垢和腐蚀产物试样中氧化钙和氧化镁的含量。垢和腐蚀产物的许多常见成分...发布时间：2010-05-17 21:53 点击次数：1584 次
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氧化铜的测定 氧化铜的测定sd 202.8—86determination for copper oxide 本方法适用于测定垢和腐蚀产物中氧化铜的含量。铁(ⅲ)、铬(ⅲ)、镍(ⅱ)干扰测定。通常，铁(ⅲ)用柠檬酸掩蔽，消除其干...发布时间：2010-05-17 21:52 点击次数：1153 次